乾曜光学首台193nm深紫外激光干涉仪于2025年7月15日成功下线，技术指标达到测量精度RMS优于2nm，RMS波前重复性优于0.2nm。继德国、美国和日本之后，中国具有了自主的193nm深紫外激光干涉仪。
这一成果凝聚着多方的付出和支持：有客户的信任，在乾曜光学没有193nm干涉仪研制经验的情况下下达订单，提供技术支持并协调供应商资源；也有供应商合作伙伴的通力配合，为了压缩节点时间特事特办，就像警察护送赶考的学子一样，一路绿灯畅行；更有乾曜光学团队的极致创新和精工细作，从方案设计、零件制造、组装测试到品质保证，每一个环节都精益求精。
当日，项目团队成员齐聚一堂，共同见证了这一激动时刻，分享成功的喜悦并总结项目经验。
杨毓总经理在掌声中隆重宣布：“乾曜光学首台193nm深紫外激光干涉仪成功下线！”简短话语中，包含着团队对自主创新的执着和自豪。
技术总监祝沛：“从266nm到193nm，看似只是波长的缩短，实则是从‘有参考’到‘全自主’的质变。深紫外波段的未知性，让每一步设计都如履薄冰。但团队用两周时间，把无数‘可能失败’变成了‘必然成功’。这不仅是一台设备的下线，更是乾曜技术实力的证明——中国也能造出可交付、可信赖的193nm深紫外激光干涉仪。过程的艰辛无需多言，但这份突破，值得我们所有人骄傲。”
仪器制造部王万：“我们负责设备装配时，最初完全是‘摸着石头过河’。对比633nm干涉仪光学穿轴一次成功，193nm的光学穿轴我们调试不下50次，光路校准反复调整，每一次微调都关乎最终精度。”
采购计划部杨敏：“193nm项目的物料堪称‘史上最复杂’——新品多、工序繁、交期紧。但采购从不是孤军奋战：杨心、刘云超等同事与我们一道，驻场供应商车间逐项盯进度、查质量，最终确保所有物料按时达标。正是这种‘拧成一股绳’的协作，为设备下线筑牢了根基。”
技术中心周浩：“这是我首次接触深紫外项目，从一脸茫然到参与其中，见证了太多次‘山重水复’后的‘柳暗花明’。无数次试错虽累，但看到设备成功运行的那一刻，所有付出都有了意义。能参与这样的突破，我无比自豪。”
193nm深紫外激光干涉仪团队合照
193nm深紫外激光干涉仪的下线，是乾曜光学的里程碑，更是中国自主创新的缩影。以此次突破为起点，乾曜人将继续以协作铸根基、以创新拓前路，在高端光学领域书写更多“中国智造”的传奇。
晶圆缺陷检测物镜“细微之处见真章”
晶圆缺陷检测设备中的物镜是现代光学工程的巅峰之作，它集成了超高NA、极短波长、极致像差校正、大视场、高透射率、超低杂散光、优异稳定性等尖端技术于一身。其设计和制造难度极高，成本也非常昂贵。这些苛刻的光学技术要求的唯一目标就是：在晶圆高速扫描过程中，稳定地提供超高分辨率、高对比度、低噪声的光学图像，从而可靠地检测出尺寸微小、对比度低的各种致命缺陷，确保先进半导体制造的良率和可靠性。
素绘193深紫外激光干涉仪“超凡脱俗”
使用193nm深紫外激光干涉仪测量有图晶圆缺陷检测物镜的光学波像差，是评估其性能极限（如 RMS优于2nm）的核心技术手段。这种测量直接关联到物镜的分辨率、对比度和缺陷检测灵敏度。
乾曜光学素绘193nm深紫外激光干涉仪是一种等厚干涉原理的高精度波前测量设备，其核心原理是通过参考光与被测光形成的干涉条纹分析波前畸变。 乾曜光学团队解决了一系列测量193nm物镜波像差的关键挑战。
波长匹配性
挑战：物镜设计优化于193nm，必须在工作波长下测量才能反映真实性能（色差、材料色散、镀膜特性）。
技术：使用193nm激光器作为光源。这是菲索干涉仪的核心，要求激光具有极高的空间相干性、时间相干性、波长稳定性和功率稳定性。
超高数值孔径（NA）测量
挑战：晶圆检测物镜NA极高甚至达到0.98，传统干涉仪难以在如此大角度下保持高精度。
技术：专用NA0.95和NA0.98高反球面反射镜，反射率大于50%@193nm，全口径面形误差PVr优于31.64nm。
极低像差测量精度
挑战：要求测量精度RMS优于2nm甚至更高。
快速移相干涉技术（FPSI）： 通过精密移相器（压电陶瓷驱动）引入已知相位变化（如0°, 90°, 180°, 270°），采集多帧干涉图，利用算法（如5步法、13步法）精确计算每个像素点的波前相位，精度可达RMS优于2nm或更高。
先进波前重构算法
如Zernike多项式拟合、区域法重建，精确分离和量化各种像差（球差、彗差、像散等）。
环境控制
挑战：193nm光易被空气吸收（氧气、水汽），且热变形、振动、气流对纳米级测量是灾难性的。
真空或充纯氮（N2）环境： 整个干涉光路置于真空腔或持续通高纯氮气的密封环境中，消除空气吸收和折射率扰动。
超精密恒温系统： 控制环境温度在±0.02°C甚至更优。
杂散光抑制
挑战：193nm光易在光学表面和机械结构上产生散射光，污染干涉图。
低散射镀膜： 193nm专用增透膜（AR）和高反膜（HR）。
洁净室环境： 防止灰尘成为散射源。
参考镜校准
挑战：参考镜本身的误差会直接传递到测量结果中。
绝对校准技术：使用如“三平面旋转法”、“标准球随机旋转法”和“双球面旋转互检法”等绝对测量技术标定标准镜自身面形误差，并在后续测量中扣除。
