2025年7月17日，“质析毫微・谱绘万象”半导体痕量成分检测技术交流会在中国科学院上海应用物理研究所学术交流中心隆重举行。本次会议由中国物理学会质谱分会、北京雪迪龙科技股份有限公司联合主办，中国科学院上海应用物理研究所、分析测试百科网、中国仪器仪表学会分析仪器分会质谱仪器专家组协办，共同聚焦半导体检测技术的前沿动态与国产化发展之路。

开幕致辞

中国物理学会质谱分会理事长方向在致辞中强调，质谱技术在我国材料、半导体以及生命科学等诸多领域都具有极为重要的意义，而近年来质谱技术的国产化替代和突破已成为各界关注的焦点。方向提到，我国在推动质谱技术国产化方面已取得重要进展，得到了国家的大力支持，众多企业家怀着责任感和使命感，抓住市场机遇，推动国产质谱技术的发展。

北京雪迪龙科技股份有限公司董事长敖小强表示，此次研讨会对于雪迪龙而言意义非凡，尤其是与中国科学院上海应用物理研究所共同成立飞行时间二次离子质谱上海应用中心，这不仅是雪迪龙与科研院所的一次重要合作，也是推动国产科学仪器发展的重要一步。雪迪龙作为行业领军企业，致力于推动国产仪器的研发与产业化，助力半导体检测技术的自主可控。他希望通过此次研讨会，与各位专家共同探讨如何推动高端科学仪器发展，特别是在半导体相关设备领域。

 揭牌仪式

在开幕致辞之后，举行了一场意义非凡的揭牌仪式。北京雪迪龙科技股份有限公司与中国科学院上海应用物理研究所携手共建“飞行时间二次离子质谱上海应用中心”。这一合作标志着产学研深度融合迈出了坚实一步，双方将共同致力于质谱技术的研发与应用，标志着雪迪龙的飞行时间二次离子质谱（TOF-SIMS）的国产化进程正式启动。

主题报告

雪迪龙副总工程师张倩暄带来了题为“基于CRDS等技术的半导体解决方案”的报告。针对半导体生产工艺中遇到痕量成分检测的难题，雪迪龙推出了基于光腔衰荡光谱（CRDS）的痕量气体分析仪、以及用于晶圆表面污染检测的飞行时间二次离子质谱仪（TOF-SIMS）等，满足半导体行业对痕量杂质检测的高灵敏度和高精度要求。

雪迪龙子公司英国KORE公司总经理Stephen James Mullock博士在“TOF-SIMS-An Essential Technique for a Modern Surface Science Laboratory”报告中，介绍了TOF-SIMS在半导体行业、涂层技术和各类材料粘附相关领域表面分析中的重要性，以及在分子信息获取和高空间分辨率方面的优势，并分享了KORE公司在TOF-SIMS仪器设计上的创新。

雪迪龙子公司英国KORE公司技术专家Douglas Fraser Reich在“The Applications of TOF-SIMS in Materials Science”报告中，介绍了TOF-SIMS在表面化学、粘附性、多层薄膜、药物传递以及半导体中低水平元素的分布和同位素标记等领域的应用，并通过实际案例展示了TOF-SIMS在工业问题解决中的强大能力。

半导体检测技术的自主可控是我国半导体产业发展的关键，通过加强产学研合作、推动技术创新和人才培养，我国有望在高端科学仪器领域实现突破，为半导体产业的高质量发展提供有力支撑。

半导体痕量成分检测技术交流会的成功举办，为我国半导体检测技术的自立自强注入了新的活力。雪迪龙期待与各科研单位、专家合作，成为各方开展质谱技术研究的共享平台。