最先进的光刻机

    全球最先进的EUV光刻机全球只有荷兰的ASML生产，占据了光刻机市场高达80%的市场。Intel、台积电、三星的光刻机都来自于与ASML。

最顶尖的光刻机不是荷兰一个公司制造的，集合了许多国家最先进技术的技术支持，可以说是多个国家国家共同努力的结果，比如德国的光学镜头、美国的计量设备等。ASML将这些来自不同国家的3万多个配件，分为13个系统，需要将误差分散到13个系统，如果德国的光学设备做的不准、美国的光源不准，那么ASML瞬间就是失去了精神。

相较于荷兰、德国、美国等这些国家，我国的芯片制造以及超精密度机械制造方面不具有优势。再加上《瓦森纳协定》的技术封锁，因此，在高端光刻机领域，我国可以收仍然是空白。

我国的光刻机技术

上海微电子装备有限公司（SMEE）是我国国内唯一能够做光刻机的企业。上海微电已经量产的光刻机中，性能最好的是SSA600/200工艺，能够达到90nm的制程工艺，相当于2004年奔四CPU的水平。因此，国内晶圆厂所需要的高端光刻机完全依赖进口。

目前，最先进的光刻机是ASML的极紫外光刻（EUV），用于7nm、5nm光刻技术，对于EUV光刻关键技术，国外进行了严重的技术封锁。我国在2017年，多个科研单位合作经过7年的潜心钻研，突破了EUV关键技术。根据相关资料披露，计划2030年实现EUV光刻机国产化。

总之，在高端光刻机领域，我国的技术仍然比较薄弱。目前，中芯国际已经从ASML成功订购了一台7nm制程的EUV光刻机，希望能够在高端芯片制造领域能够找到“备胎”。